便攜式激光平面干涉儀主要用于高精密光學平面的平面度測量,光學平板的微小楔角測量,光學材料均勻性測量,光學薄板波前誤差的測量。由于其獨特的結構設計,拓展后可以滿足角錐測量、光學系統測量、便攜測量等多場景應用。是光學元件加工廠、光學儀器生產廠、大專院校、職工培訓機構以及計量單位必備的光學檢測儀器及教學設備。
XQ60-GⅡ型便攜式激光平面干涉儀主要用于高精密光學平面的平面度測量,光學平板的微小楔角測量,光學材料均勻性測量,光學薄板波前誤差的測量。由于其獨特的結構設計,拓展后可以滿足角錐測量、光學系統測量、便攜測量等多場景應用。是光學元件加工廠、光學儀器生產廠、大專院校、職工培訓機構以及計量單位必備的光學檢測儀器及教學設備。
特點:
此型號儀器是以菲索干涉原理為基礎,研制的檢測專用干涉儀,具有良好的防震性能、穩定的條紋鎖定度、視場清晰、生產場所可用性優于市場同類產品。